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專利號:200810090940
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用于形成掩模層圖案的方法和系統

本發明涉及一種用于形成掩模層圖案的方法和系統。目前描述的實施例采用例如蠟印技術的印刷工藝,以便形成例如印刷電路的掩模層圖案(比如阻焊劑層)。實質上可保持顯影阻焊劑和曝光工藝中所有的其它常規工藝。根據目前描述的實施例,各印刷電路將具有匹配均勻和非均勻偏斜的獨特圖案。在一種形式中,圖案包括其間具有規定間隔的單一蠟滴,用以使得該工藝對于當前的工業實踐是明晰的。此外,單一的滴可既用于大區域又可用于小區域,而沒有任何顯影時間的差異。在至少一種形式中,間隔中的蠟模和阻焊劑在顯影期間被除去。

用于形成掩模層圖案的方法和系統

一種用于在印刷電路上的紫外線可固化材料層內形成圖案以便暴露所述印刷電路的選定部分的方法,所述方法包括:    確定待應用于所述層的掩模的掩模圖案;    基于所述層上的所述掩模圖案形成所述掩模;    將所述層和所述掩模曝露于紫外光;和    顯影所述層中的圖案,使得在所述顯影期間除去所述掩模和對應的在下面的材料,以便暴露所述印刷電路的選定部分。
 


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專利號: 200810090940
申請日: 2008年3月28日
公開/公告日: 2008年10月1日
授權公告日:
申請人/專利權人: 帕洛阿爾托研究中心公司
國家/省市: 美國(US)
郵編:
發明/設計人: S·J·H·林布、E·J·什拉德、U·斯里尼瓦桑
代理人: 曾祥夌 廖凌玲
專利代理機構: 中國專利代理(香港)有限公司(72001)
專利代理機構地址: 香港灣仔港灣道23號鷹君中心22字樓()
專利類型: 發明
公開號: 101276143
公告日:
授權日:
公告號: 000000000
優先權: 美國2007年3月30日11/731689
審批歷史:
附圖數: 9
頁數: 10
權利要求項數: 2
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